産業財産権(田村元紀)

  • 特許6115942 クロム含有金属材料及びクロム含有金属材料の製造方法
  • 特許4620846 光触媒活性を有する金属板
  • 特許4620844 光触媒活性を有する金属板
  • 特許4567892 光触媒活性を有する金属板およびその製造方法
  • US7601672 High-Al Stainless Steel Plate and double-layered Plate
  • EP02048258A1 Honeycomb bodies employing high Al stainless steel sheet and process for production thereof
  • 特許4198448 金属箔及び触媒担体用のハニカム構造体並びに排気ガス浄化用のメタル触媒担体
  • 特許4198447 箔及びハニカム構造体
  • 特許4198446 ステンレス鋼板及びそれを用いてなるハニカム構造体
  • US20080069717A1 High Al stainless steel sheet and double layered sheet, process for their fabrication, honeycomb bodies employing them and process for their production
  • 特許4080304 排気ガス浄化用触媒担体及びその製造方法
  • 特許3953944 金属箔及びハニカム構造体
  • 特開2007-009276 ステンレスパイプ及び容器類における水素バリヤ被覆物品及びその製造方法
  • 特許3839925 シリコンの製造方法
  • US20060166029A1 High Al stainless steel sheet and double layered sheet, process for their fabrication, honeycomb bodies employing them and process for their production
  • EP01580288A1 HIGH-Al STAINLESS STEEL PLATE AND DOUBLE-LAYERED PLATE, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, A HONEYCOMB STRUCTURE THEREFROM AND PROCESS FOR PRODUCING THE HONEYCOMB STRUCTURE
  • 特許3721545 半導体基板用研磨布のドレッサー
  • 特開2005-226107 ステンレスパイプ及び容器類における水素バリヤ被覆物品及びその製造方法
  • US 6752708 Pad Conditionaer for semiconductor substrates
  • 特許3533046 半導体基板用研磨布のドレッサー
  • 特許3482321 半導体基板用研磨布のドレッサーおよびその製造方法
  • 特許3482313 半導体基板用研磨布のドレッサーおよびその製造方法
  • 特許3379868 チップソーの製造方法
  • 特許3368312 半導体基板用研磨布のドレッサーおよびその製造方法
  • 特許3340017 真空アークデスケーリング局所処理装置
  • 特許3236385 セラミックス粉末成形用金型
  • 特許3199395 セラミック皮膜とその製造方法
  • US6190240 Method for producing pad conditionaer for semiconductor substrates
  • 特許3091824 セラミックス被覆鋼管成形ロール
  • 特許2895375 イオンプレーティング装置
  • 特許2746505 セラミック被覆部材とその製造方法
  • 特許2549962 酸化イリジウム不溶性電極とその製造方法
  • 特許2063205 アルミダイカスト用金型及びその製造方法
  • 特許1726347 低水素,低窒素,低酸素溶接用フラツクス
  • US4566916 Low-hydrogen low-nitrogen, low-oxygen welding flux